拋光粉-氧化鈰

玻璃篇

什麼是拋光？拋光就是把物體粗糙的表面變得光滑。拋光的原理大致可以歸納為三種理論：機械去除理論、化學作用理論、熱的表面流動理論。

一、稀土拋光的三種理論

機械去除理論

1 機械去除理論認為：①拋光是研磨的延續，拋光與研磨的本質是相同的，都是尖硬的磨料顆粒對玻璃表面進行微小切削作用的結果。 ②由於拋光是用較細顆粒的拋光劑，所以微小切削作用可以在分子範圍內進行。由於拋光模與工件表面相互吻合，拋光時切向力特別大，因此使玻璃表面的凹凸結構被切削掉，逐漸形成光滑的表面。

化學作用理論

2 化學作用理論認為：拋光過程是在玻璃表層、拋光劑、拋光模和水的作用下，發生錯綜複雜的化學過程。主要是玻璃表面發生的水解過程，是水解生成物－矽酸凝膠薄膜不斷生成、不斷刮除的過程。

熱的表面流動理論

3 熱的表面流動理論認為：玻璃表面由於高壓和相對運動，摩擦生熱使表面產生塑性流動，凸起的部分將凹陷填平，形成光滑的拋光表面。

稀土拋光粉

氧化鈰拋光粉（又稱研磨劑）分為紅色粉未及白色粉末兩種顏色：其此兩種產品與玻璃種類產生的化學變化亦有所不同。

拋光粉就是拋光過程中使用的粉狀磨介，通常分為幾種：氧化鈰、氧化鋁、氧化矽、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等稀土成份。不同的產品材料的硬度不同，在水中的化學性質也不同，因此使用產品亦各有不相同。鈰稀土拋光粉是較重要的拋光粉產品之一。因其具有切割能力強，拋光時間短、拋光精度高、操作環境清潔等優點，故比其他拋光粉的使用效果佳。

二、稀土拋光粉分類

稀土拋光粉的主要成分是CeO2,根據其CeO2量的高低可將鈰拋光粉分為兩大類：一類是CeO2含量高的價高質優的高鈰拋光粉，一般CeO2/TREO≥80% ；一類是CeO2含量低的廉價的低鈰拋光粉，其鈰含量在50%左右，或低於50%,其餘由La2O3,Nd2O3,Pr6O11組成。

備註：TREO（TotalRare Earth Oxides ）是稀土氧化物總量的意思。

對於高鈰拋光粉來講，氧化鈰含量越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，特別是硬質玻璃長時間循環拋光時（石英、光學鏡頭等），以使用高鈰含量拋光粉為宜。

鈰含量較高的拋光粉可用於光學鏡片等材質的拋光處理

鈰含量較低的拋光粉一般含有50%上下的CeO2,其餘含量為La2O3SO3,Nd2O3SO3,Pr6O11SO3等其他成份組織而成，鹼性無水硫酸鹽或LaOF、NdOF、PrOF等鹼性氟化物，此類拋光粉特徵是初始拋光，能力與高鈰拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用於平面玻璃、顯像管玻璃、眼鏡鏡片等玻璃拋光使用，但使用壽命相對會比高鈰含量拋光粉較差。

鈰含量較低拋光粉可用於平面玻璃及眼鏡鏡片

三、稀土拋光粉的粒徑及粒徑分佈對拋光性能的影響

對於一定組分和加工製程的拋光粉，平均顆粒尺寸越大，則玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。拋光粉的顆粒尺寸會影響切削速度。顆粒愈大切削速度愈好，顆粒較細微，則切削量減少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，標準拋光粉一般有較窄的細微性分佈，太細和太粗的顆粒很少，無大顆粒的拋光粉能拋光出高品質的表面，而細顆粒少的拋光粉能提高切削速度。

稀土拋光粉生產技術屬於微粉工程技術，稀土拋光粉屬於超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：奈米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據此分類方法，稀土拋光粉可分為：奈米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常大量使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒徑分佈在1μm~10μm之間，稀土拋光粉依其物理化學性質一般使用在玻璃拋光的最後工序，進行精磨，因此其粒徑分佈一般不大於10μm,粒徑大於10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃處理初期的粗磨。小於1μm的亞微米級稀土拋光粉，由於液晶顯示器與電腦光碟領域的應用逐漸受到重視，產量也逐年提高。奈米級稀土拋光粉，隨著現代科學技術的發展，其應用也愈來愈廣泛了。

申明

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